真空在涂裝工藝中的應(yīng)用
就鍍膜工藝而言，真空的應(yīng)用體現(xiàn)在哪些方面？
在許多鍍膜工藝中（例如：金屬、塑料或玻璃以蒸汽形態(tài)沉積），真空扮演著決定性的作用。在很多情況下，離開(kāi)真空，就無(wú)法實(shí)現(xiàn)這些工藝。一般在工藝開(kāi)始之初，對(duì)腔室施加中度或高度真空，以便真空排氣，再抽除反應(yīng)氣體或者氣化固體原材料。

這些鍍膜工藝都有一個(gè)共同的要求：腔室必須保持符合鍍膜工藝要求的中度或高度真空。這些鍍膜工藝有助于改變材料的表面特征，例如硬度或耐腐蝕性。此外，真空鍍膜也可以改善材料的附著性或濕潤(rùn)性，或者讓材料表面保持疏水性或親水性。

意大利DVP真空蹦的哪些真空解決方案尤其適合鍍膜工藝？
我們提供大量不同的鍍膜工藝真空解決方案，除了獨(dú)立式真空泵，也供應(yīng)全套真空系統(tǒng)。L-C單級(jí)旋片真空泵適用于鍍膜工藝，實(shí)踐證明，DVP旋片真空泵結(jié)合羅茨真空泵是中度真空鍍膜應(yīng)用的標(biāo)準(zhǔn)解決方案。赫哲真空還可提供型號(hào)的變距螺桿真空泵和羅茨真空泵，使真空系統(tǒng)的設(shè)計(jì)達(dá)到鍍膜工藝的要求。如果需要高度真空，我們有渦輪分子真空泵和擴(kuò)散真空泵，將這類泵與前級(jí)泵組合即可滿足鍍膜工藝要求。

赫哲真空在鍍膜工藝中的應(yīng)用范例：
 
物**相沉積（PVD）
化學(xué)氣相沉積（CVD )
等離子增強(qiáng)沉積
金屬鍍膜